Hauzer Techno Coating

HIPIMS

HIPIMS による緻密かつ欠陥のないコーティング

真空物理蒸着(PVDコーティング)は、 主に アーク蒸着法 または マグネトロンスパッタリングが用いられます。 High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) は、PVD技術に新たな展開をもたらします。 HIPIMS 技術は、マグネトロンスパッタリングの長所にアーク蒸着法の特徴である高いイオン化率による成膜の長所を付け加えます。その結果、良好な密着性と緻密かつ平滑なコーティングを実現します

HIPIMS は、エッチングに極めて適した技術です。HIPIMSにより、最大8 MWまでの高出力でスパッタされた粒子が基材に衝突することにより、高い密着性を特徴とする緻密な膜形成を実現します。HIPIMSによるコーティングについては、可能ではありますが、成膜速度の点では従来スパッタ技術と比べて 極めて低くなります。


 

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