豪泽是PVD（物理气相沉积）和PACVD（等离子辅助化学气相沉积）方面的专家。下面我们将对这些技术解释，包括：

• PVD 技术
• 电弧蒸发
• 溅射技术（包括磁控溅射、UBM溅射、闭合场溅射和HIPIMS+）
• PACVD 技术
• 等离子体渗氮结合PVD

多种技术应用在一台设备上

在豪泽的涂层设备上可以将多种技术混合应用在一台设备当中。这样可以更方便地使用不同种技术制备多层结构的涂层，例如：

• 使用电弧技术沉积金属底层以提高涂层结合力
• 然后使用磁控溅射技术沉积碳化钨中间层，提高涂层的硬度并降低摩擦系数
• 使用PACVD技术沉积高硬度的DLC顶层。由于采用梯度增加的硬度值，这样涂层不易剥落。

由于设备设计的灵活性，给升级现有豪泽的涂层设备提供了可能。

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