Hauzer Techno Coating

HIPIMS

物理气相沉积涂层(PVD 涂层)主要是由电弧蒸发或磁控溅射沉积


物理气相沉积涂层(PVD 涂层)主要是由电弧蒸发或磁控溅射沉积。高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)为PVD硬质涂层的第三种方法(电弧离子镀和磁控溅射为前两种方法)。HIPIMS技术表明,高电离的优势 (如电弧蒸发)和磁控溅射的优势相结合是可行的。其结果是制备出良好附着力以及致密,光滑级的涂层。

HIPIMS技术非常适用于蚀刻。由于长达8兆瓦的峰值功率,HIPIMS溅射的原子将进入到基板给予致密,并且具有强大的黏结性柱状层。运用HIPIMS技术涂层也是可行的,但是其沉积率低于目前的溅射技术。

 

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